第327章 EUV光刻机(2/2)
于7n节点。注1:取出nxe3400b之后,可在商城购买该光刻机的所有资料,包括图纸和专利技术。
注2:nxe3400b产能一月24000片圆晶,根据尺寸的大小,分割后将获得不同数量的芯片(12寸400颗)。
注3:该光刻机体积不小,默念取出时,请不要在狭小的空间内。
“牛啊!最小分辨率居然达到了5nm级别,3400b,足以吊打全世界了!”
光刻机的发展史,实际上就是‘光源改进’+‘工艺创新推动光刻机更新换代’。
自从拿到5之后,苏扬就查过有关芯片的信息,但没太深入。
前阵子从杨庆涛那边得知,世界第一超算‘泰坦’的运算速度,连1亿亿次都达不到,他立刻意识到了芯片制作工艺,恐怕与前世没办法相比。
一查之下,果然是如此。
现在r那边,去年才刚刚公布45nm的芯片进入量产阶段。
而苏扬手里所用的noy5,芯片是双核的,也属于45nm工艺,不过不是r的,而是高通的。
现在的r和前世一样,主要的业务领域在计算机方面,移动方面的半导体巨头,还是以高通和三星为最。
而对于芯片来说,不管是计算机的,还是移动手机的,纳米工艺越小越好。
所谓的纳米工艺,对准的是集成电路与晶体管。
通常来说,晶体管的尺寸越小,意味着栅极越小,代表一个同样尺寸芯片上的晶体管越多。
苏扬记得,像前世的r的酷睿i7,制作工艺的尺寸缩小到了14n上有上百个晶体管。
仅一个小拇指盖大小的芯片上,就可以承载数十亿颗晶体管。
这也意味着,在提高计算机运算速度的同时,能耗保持在原本的高度,甚至变得更低。
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